Электронно-библиотечная система НГТУ / Информация о ресурсе
Подождите, идет поиск...Информация о ресурсе
| Автор(ы): | Монгуш А. К. |
| Заглавие: | Разработка технологического процесса, формирование фоторезистивной маски с использованием фоторезиста RD2700 : выпускная квалификационная работа, научный руководитель Остертак Дмитрий Иванович |
| Выходные данные: | Новосибирск, 2024 |
| Полный текст: |
перейти / скачать файл |
| Тип: | выпускные квалификационные работы |
| Предметная область: |
электроника, радиотехника и системы связи |
| Кафедра/ подразделение-разработчик: |
каф. ППиМЭ (факультет РЭФ) |