Автор(ы): | Рыжков П. Е. |
Заглавие: | Исследование влияния параметров разработанного режима плазмохимического травления Si3N4 на селективность Si3N4/SiO2 : выпускная квалификационная работа, научный руководитель Остертак Дмитрий Иванович |
Выходные данные: | Новосибирск, 2024 |
Полный текст: |
перейти / скачать файл |
Тип: | выпускные квалификационные работы |
Предметная область: |
нанотехнологии и наноматериалы |
Кафедра/ подразделение-разработчик: |
каф. ППиМЭ (факультет РЭФ) |