| Автор(ы): | Рыжков П. Е. |
| Заглавие: | Исследование влияния параметров разработанного режима плазмохимического травления Si3N4 на селективность Si3N4/SiO2 : выпускная квалификационная работа, научный руководитель Остертак Дмитрий Иванович |
| Выходные данные: | Новосибирск, 2024 |
| Полный текст: |
перейти / скачать файл |
| Тип: | выпускные квалификационные работы |
| Предметная область: |
нанотехнологии и наноматериалы |
| Кафедра/ подразделение-разработчик: |
каф. ППиМЭ (факультет РЭФ) |