| Автор(ы): | Симанюк Р. Е. |
| Заглавие: | Отработка режимов нанесения фоторезиста на пластины диаметром 100 и 200 мм : выпускная квалификационная работа, научный руководитель Каменская Анна Викторовна |
| Выходные данные: | Новосибирск, 2021 |
| Полный текст: |
перейти / скачать файл |
| Тип: | выпускные квалификационные работы |
| Предметная область: |
электроника, радиотехника и системы связи |
| Кафедра/ подразделение-разработчик: |
каф. ППиМЭ (факультет РЭФ) |